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UE4 Lightmass(光照烘培)笔记
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2018/04

UE4 Lightmass(光照烘培)笔记

Head Pic:「私のお姉様がこんなに(ry」/「77gl」

UE4 Lightmass(光照烘培)笔记


GI计算

GI(间接光)计算实际是造成目前次世代游戏引擎不真实的罪魁祸首,UE4其实完全能达到离线渲染的GI质量水平,关键是参数的调整和大量的计算时间,关于GI也就是LightMass计算的调节,UE4在编辑器中给出了4个预制档位。

以下谈论的部分不涉及LightMass光照贴图的分辨率影响。光照贴图分辨率越小越好,如果你明确阴影产生的是锯齿而不是噪点,那就该加分辨率。
这四个档位实际上只是针对具体的基本参数的倍率关系,具体倍率在
Epic Games/4.9(你的引擎版本号)/Engine/Config/BaseLightmass.ini
文件中(记事本打开)Crtl+F搜索对应档位关键词可以找到。可以自己调也可以保持默认以防调整太夸张。


世界设置

另外在引擎中另一个地方的参数同样会影响基础烘培参数,那就是“世界设置”,如下。

涉及到的参数包括

  1. Static Lighting Level Scale(下文简称SLLS),世界尺寸缩放,这里的缩放指的用于计算光照的参考尺寸,而不是真正的改变场景尺寸,默认为1,可以小到0.1。重点参数,越小计算采样的基础精度(采样数上升)越高。计算时间受该参数强烈影响。

  2. Num Indirect Lighting Bounce(下文简称NILB),反弹次数,对计算时间影响不大,越高GI反弹次数越多,同时如果精度不够,也意味着噪点将会更容易产生。可以大到100。非重点参数。

  3. Indirect Lighting Quality(下文简称ILQ),间接光计算质量,默认值1,可以大到10,重点参数,对精度影响巨大,计算时间也和这个值成整倍数上升。

  4. Indirect Lighting Smoothness(下文简称ILS),结果模糊度,用于模糊计算结果,平滑噪点,基本保持1的值,过大细节丢失,过小噪点凸显。
    综上所诉,最终的质量由“采样数量”和“采样精度”共同决定,缺一不可。
    下面来分别讲解这两者的调节,只讨论质量,不计时间成本。

采样

采样数量在引擎中,受SLLS的值控制,在文首提到的BaseLightMass.ini文件中,也受NumIrradianceCalculationPhotons和IndirectPhotonScarchDistance两者共同的影响,就是说两者要调一起调,单独调没用。无论在引擎还是在ini文件中调,都行,选其一就行。如下图。



“采样精度”:在引擎中,受ILQ控制,在BaseLightMass.ini中,受NumHemisphereSamples或者NumHemisphereSamplesScale的控制,三者选其一即可。


最后

说一说渲染时间,想要好的效果,要花费不少的时间,如果是单台I7级别的电脑,简单场景高质量花费十多个小时很正常,复杂场景就更多了,所以建议有条件的使用引擎路径中的Swam Coordinator小软件
(可以在引擎安装目录搜索出来)联机渲染,效率高很多,具体设置这里就不展开了,Google。

以上标蓝色的两者都调好了,预制的4个档位只是倍率关系,具体情况具体选,已经不重要了,下图是高参数的效果,完全不输于离线渲染引擎,而且还是360度全方位的计算。如下。


版权所有:liuk718
原文地址:UE4 Lightmass(光照烘培)笔记

Last modification:November 10th, 2018 at 03:28 pm
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